@phdthesis{01HRCM0CHFQZ6C9TF1YBR9YRA2,
  abstract     = {{Het continu kleiner maken van micro-elektronica vereist een steeds hogere controle (tot op de atomaire schaal) op het fabricatieproces van de technologie. Atomaire Laag Depositie (ALD) en Moleculaire Laag Depositie (MLD) hebben zich reeds bewezen als ideale depositietechnieken voor deze toepassingen vanwege hun ongeëvenaarde filmkwaliteit, diktecontrole en mogelijkheid om complexe substraten te coaten. Toch zijn er nog veel uitdagingen, zoals de moeilijkheid om pure metalen af te zetten, de lage stabiliteit van hybride/organische lagen, de beperkte beschikbaarheid van precursoren en het maken van lagen met polyanionische verbindingen. Om de grenzen van de traditionele depositie processen te verleggen was er daarom nood aan een onderzoek van verschillende out-of-the-box ideeën. Tijdens dit proefschrift zijn er fotonen gebruikt om het nucleatiegedrag en de morfologie van metallische lagen te controleren; behandelingen met zuurstofplasma op verschillende zogenaamde ‘metalcones’ zijn toegepast om hun stabiliteit en compatibiliteit met latere deposities te verhogen; en ozon is gebruikt om via in-situ oppervlakte-functionalisatie voor het eerst een nieuw soort materiaal, i.e. fosfonaatfilms, te verkrijgen.}},
  author       = {{Santo-Domingo Peñaranda, Juan}},
  language     = {{eng}},
  pages        = {{XX, 269}},
  publisher    = {{Ghent University. Faculty of Sciences}},
  school       = {{Ghent University}},
  title        = {{Thinking outside the box : non-standard methods for atomic/molecular layer deposition}},
  year         = {{2024}},
}